電子級氯化氫產品生產裝置于2003年投產，經北京市科委鑒定，國家標準物質研究中心和信息產業部專用材料質量監督檢驗中心抽樣檢驗，純度大于99.999%，總雜質含量小于5ppm，產品性能指標突出。主要用于半導體器件生產中單晶硅片的氣相拋光、外延基座腐蝕及硬質合金制造。

電子級氯化氫氣體的化學反應

干燥氯化氫的化學性質很不活潑。堿金屬和堿土金屬在氯化氫中可燃燒，鈉燃燒時發出亮黃色的火焰：

2Na+2HCl─→2NaCl+H2

但鋅、鎂、鐵等較活潑的金屬以及大多數金屬氧化物都不能與干燥的氯化氫作用。干燥氯化氫具有一定的還原性，如氧氣在加熱時可把它氧化：

濕的氯化氫氣體的化學性質卻相當活潑，能與上述金屬及氧化物發生反應。工業上是用氫與氯在 250℃直接化合以制取氯化氫；它也是烴類氯化的副產品：

CnH2n+1+Cl2─→CnH2n+1Cl+HCl

實驗室制法是用濃硫酸與氯化鈉作用：

NaCl+H2SO4─→NaHSO4+HCl

NaHSO4+NaCl─→Na2SO4+HCl